Cinétique et mécanisme de la siliciuration du niobium et de l'oxydation des siliciures de niobium à basse pression et à haute température

Publisher: Edp Sciences

E-ISSN: 0035-1687|5|3|545-549

ISSN: 0035-1687

Source: Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.5, Iss.3, 1970-06, pp. : 545-549

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