Mécanismes d'anisotropie dans la gravure du silicium en plasma SF6. Modèle de gravure
Publisher: Edp Sciences
E-ISSN: 0035-1687|21|6|377-399
ISSN: 0035-1687
Source: Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.21, Iss.6, 1986-06, pp. : 377-399
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