Variation du mode de croissance initiale de SiO2 sur Si(001) en fonction de la température de substrat

E-ISSN： 0035-1687|25|9|923-929

ISSN： 0035-1687

Source： Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.25, Iss.9, 1990-09, pp. : 923-929

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