Etude de résines négatives sensibles aux électrons utilisées dans les procédés de microlithographie

Publisher： Edp Sciences

E-ISSN： 0035-1687|20|3|143-149

ISSN： 0035-1687

Source： Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.20, Iss.3, 1985-03, pp. : 143-149

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