Evolution de la taille des grains du silicium polycristallin pendant des traitements thermiques ou oxydation

E-ISSN： 0035-1687|24|2|133-141

ISSN： 0035-1687

Source： Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.24, Iss.2, 1989-02, pp. : 133-141

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