Recuits, dans un réacteur d'épitaxie, de substrats InP sous atmosphère de PH3, AsH3 ou chlorure d'indium, suivis in situ par ellipsométrie

Publisher： Edp Sciences

E-ISSN： 0035-1687|24|3|351-356

ISSN： 0035-1687

Source： Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.24, Iss.3, 1989-03, pp. : 351-356

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