Étude de la contribution de la diffusion simple et multiple à l'amplitude des atomes voisins du silicium dans SiO$_{2}$ : application à un granulat soumis à la réaction alcali-silice

Publisher: Edp Sciences

E-ISSN: 1764-7177|118|1|277-281

ISSN: 1155-4339

Source: Le Journal de Physique IV, Vol.118, Iss.1, 2004-11, pp. : 277-281

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