Résistance du substrat de carbone au silicium fondu dans le procédé RAD

Publisher: Edp Sciences

E-ISSN: 0035-1687|19|4|297-306

ISSN: 0035-1687

Source: Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.19, Iss.4, 1984-04, pp. : 297-306

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