Résistance du substrat de carbone au silicium fondu dans le procédé RAD
Publisher: Edp Sciences
E-ISSN: 0035-1687|19|4|297-306
ISSN: 0035-1687
Source: Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.19, Iss.4, 1984-04, pp. : 297-306
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