Etude de l'interface (211) Σ 3 dans le silicium par la méthode des franges alpha

Publisher: Edp Sciences

E-ISSN: 0035-1687|21|3|201-205

ISSN: 0035-1687

Source: Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.21, Iss.3, 1986-03, pp. : 201-205

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