Dopage du Si amorphe par la méthode de pulvérisation cathodique et propriétés de transport des couches dopées au P et au B

Publisher： Edp Sciences

E-ISSN： 0035-1687|13|4|176-179

ISSN： 0035-1687

Source： Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.13, Iss.4, 1978-04, pp. : 176-179

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