Influence de la technique de dépôt d'isolant et des modes de décapage du semiconducteur sur les propriétés électriques de structures métal-Al 2O3-InP

Publisher: Edp Sciences

E-ISSN: 0035-1687|18|12|769-773

ISSN: 0035-1687

Source: Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.18, Iss.12, 1983-12, pp. : 769-773

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