Etude et synthèse de résines positives sensibles aux électrons et aux rayons X utilisées dans les procédés de microlithographie

Publisher： Edp Sciences

E-ISSN： 0035-1687|20|2|77-86

ISSN： 0035-1687

Source： Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.20, Iss.2, 1985-02, pp. : 77-86

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