Dopage par As de couches épitaxiées de Ge sur substrats Ge et GaAs

Publisher: Edp Sciences

E-ISSN: 0035-1687|21|5|299-303

ISSN: 0035-1687

Source: Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.21, Iss.5, 1986-05, pp. : 299-303

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