Analyse stœchiométrique de couches évaporées d'oxyde de silicium par observation simultanée des réactions nucléaires (d, p) sur l'oxygène et le silicium

Publisher： Edp Sciences

E-ISSN： 0035-1687|6|3|279-283

ISSN： 0035-1687

Source： Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.6, Iss.3, 1971-09, pp. : 279-283

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