Diffusion de l'arsenic dans les structures silicium-sur-isolant obtenues par implantation d'oxygène

Publisher： Edp Sciences

E-ISSN： 0035-1687|23|8|1369-1373

ISSN： 0035-1687

Source： Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.23, Iss.8, 1988-08, pp. : 1369-1373

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