Influence de la température de substrat sur la croissance et les propriétés des films minces de silicium amorphe déposés par pulvérisation cathodique

Author: Abdesselem S   Ouhab A   Aida M S  

Publisher: NRC Research Press

ISSN: 1208-6045

Source: Canadian Journal of Physics, Vol.81, Iss.11, 2003-11, pp. : 1293-1302

Disclaimer: Any content in publications that violate the sovereignty, the constitution or regulations of the PRC is not accepted or approved by CNPIEC.

Previous Menu Next

Abstract