Appareillage d'épitaxie de composés semiconducteurs par transport réactif à courte distance

Publisher: Edp Sciences

E-ISSN: 0035-1687|18|8|515-518

ISSN: 0035-1687

Source: Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.18, Iss.8, 1983-08, pp. : 515-518

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