Implantation d'oxygène et co-implantation d'oxygène et de silicium, à faible dose, dans GaAs. I. Etude du phénomène de compensation

Publisher: Edp Sciences

E-ISSN: 0035-1687|24|10|973-982

ISSN: 0035-1687

Source: Revue de Physique Appliquée (Paris), Vol.24, Iss.10, 1989-10, pp. : 973-982

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